電鍍用純水設(shè)備工藝
【南京純水設(shè)備】電鍍用純水設(shè)備工藝
一、電鍍純水的基本要求
1、電鍍液配制:電導(dǎo)率≤15 μS/cm的純水;
2、鍍件漂洗:電導(dǎo)率≤10 μS/cm的超純水。
二、主流工藝流程及技術(shù)特點(diǎn)
1、離子交換法
流程:原水 → 多介質(zhì)過(guò)濾 → 活性炭過(guò)濾 → 軟化水 → 精密過(guò)濾 → 陽(yáng)樹(shù)脂床 → 陰樹(shù)脂床 → 混合床 → 微孔過(guò)濾 → 用水點(diǎn)
特點(diǎn):傳統(tǒng)工藝,初期投資低,但需頻繁再生樹(shù)脂(耗酸堿),維護(hù)成本高,適用于小型電鍍企業(yè)。
2、反滲透法
流程:原水 →多介質(zhì)過(guò)濾 → 活性炭過(guò)濾 → 軟化水 → 精密過(guò)濾→ 一級(jí)RO → PH調(diào)節(jié) → 二級(jí)RO → 微孔過(guò)濾 → 用水點(diǎn)
特點(diǎn):無(wú)需樹(shù)脂再生,運(yùn)行成本較低,水質(zhì)可達(dá)1~2 μS/cm,適合中等水質(zhì)要求的場(chǎng)景。
3、兩級(jí)反滲透+EDI組合工藝
流程:原水 →多介質(zhì)過(guò)濾 → 活性炭過(guò)濾 → 軟化水 → 精密過(guò)濾→ 一級(jí)RO → PH調(diào)節(jié) → 二級(jí)RO → EDI → 微孔過(guò)濾 → 用水點(diǎn)
特點(diǎn):二級(jí)RO進(jìn)一步降低鹽分,EDI提升水質(zhì)至17 MΩ·cm以上,適用于高端電鍍工藝。
三、預(yù)處理與后處理系統(tǒng)
1、預(yù)處理系統(tǒng):
多介質(zhì)過(guò)濾:去除懸浮物和大顆粒;
活性炭過(guò)濾:吸附有機(jī)物和余氯;
軟化水器:降低硬度,防止RO膜結(jié)垢。
2、后處理系統(tǒng):
紫外線殺菌:滅殺微生物,確保生物安全性;
精密過(guò)濾器(0.2~0.5 μm):攔截微小顆粒,保障最終水質(zhì)。
四、應(yīng)用領(lǐng)域
電鍍純水設(shè)備廣泛用于:
1、金屬電鍍(鍍金、銀、鉻等);
2、超聲波清洗、電泳涂裝;
3、汽車、家電表面處理;
4、玻璃鍍膜及半導(dǎo)體行業(yè)。
電鍍純水設(shè)備的核心在于膜技術(shù)的深度應(yīng)用,傳統(tǒng)離子交換法已被反滲透+EDI替代,后者具有更好的環(huán)保性和經(jīng)濟(jì)性,企業(yè)需根據(jù)水質(zhì)要求、成本預(yù)算及維護(hù)能力選擇工藝。南京反滲透純水設(shè)備 南京EDI超純水處理設(shè)備 南京工業(yè)純水設(shè)備 南京實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備 南京醫(yī)藥純化水設(shè)備 南京去離子水處理設(shè)備
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